特征

可裝載4種靶材

陰極可替換為其它部件

雙旋轉滾筒陰極可穩(wěn)定放電

高反應等離子體源用于低吸收膜

自動上下片基板搬送系統(tǒng)

規(guī)格

真空腔體 裝片室：304不銹鋼，寬500mm×深800 mm×高2890 mm
工藝室：304不銹鋼，直徑1650 mm×高1200 mm

基板夾具 可選13 – 22片

旋轉滾筒系統(tǒng)： 直徑1500 mm, 滾筒式, 10 rpm - 100 rpm

反應源 ICP（電感耦合等離子體）

濺射源 雙旋轉陰極（可選平面靶材）

真空系統(tǒng) 粗抽泵，分子泵

性能

極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa

抽氣速率 裝片室：≤20 分鐘 (從大氣到 1.0×10-1?Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3?Pa)

基板加熱溫度 可選150℃

工作條件

設備尺寸 5800 mm (寬) × 7700 mm (深)×3200 mm (高)

電源 3相, 380V ± 10％、130kVA、50/60Hz

水流量 ≥180升/分鐘

空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa

重量 約13000 kg