關(guān)于Gener系列

Gener-1300

本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設(shè)計制作的光學(xué)鍍膜機。

特征
采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉(zhuǎn)式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復(fù)性與均勻性
優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時間縮短
可以加裝用于對應(yīng)高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)
規(guī)格
真空室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)
基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）
基板架轉(zhuǎn)速 最大30rpm(可調(diào))
晶振式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器
蒸發(fā)源 電子槍1臺
性能
極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
抽氣速度 10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）
基板最高加熱溫度 最高350℃
工作條件
安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
電力 3相，200V，50/60Hz，約80KVA
水流量 100升/分以上
壓縮空氣壓力 0.5-0.7MPa
重量 約5000kg